Новый метод создания микросхем от учёных Университета Джона Хопкинса

Группа исследователей из Университета Джона Хопкинса представила передовой метод, позволяющий производить более компактные, быстрые и доступные чипы для различных устройств, включая смартфоны и самолёты. Основой их разработки стал новый процесс создания сверхминиатюрных электрических цепей, которые не видны без специального оборудования. Этот метод отличается высокой точностью и экономичностью, что делает его идеальным для массового производства.

Ключевым элементом стало использование новых материалов, способных выдерживать экстремальные уровни ультрафиолетового излучения, необходимых для формирования микросхем на кремниевых пластинах. В отличие от традиционных методов, которые не могут работать с высокоэнергетическими пучками, новая технология включает нанесение металлоорганических смесей на основе имидазола с контролем толщины на уровне нанометров. Метод химического жидкофазного осаждения (CLD) позволяет точно проектировать и тестировать различные комбинации материалов.

В настоящее время команда работает над комбинациями для излучения B-EUV, которое планируется внедрить в производственный процесс в ближайшие десять лет. По словам профессора Майкла Цапасиса, металл, который неэффективен на одной длине волны, может оказаться полезным на другой, что открывает новые возможности для разработки. Например, цинк не очень подходит для экстремального ультрафиолетового излучения, но является одним из лучших вариантов для B-EUV.